Kuzey Amerika Teknoloji Sempozyumu 2024’te TSMC, yenilikçi NanoFlex teknolojisi de dahil olmak üzere 2 nm teknoloji düğümlerine yönelik ilerlemesini ve planlarını ayrıntılı olarak anlattı. Tıpkı TSMC’nin planladığı gibi şirket, 2025’in ikinci yarısında N2 proses teknolojisinde seri yonga üretimine başlayacak. Bu arada, şirketin 2. Nesil 2nm sınıfı düğümü olan TSMC’nin N2P’si, arka tarafta bir güç dağıtım ağı sunmayacak. Ancak 2nm düğümler, 3nm işlemlerle karşılaştırıldığında hala gelişmiş güç devrelerine sahip olacak.

TSMC’nin yakında çıkacak N2 üretim teknolojisi, mevcut N3E üretim süreçlerine göre önemli ilerlemeler vaat ediyor; beklenen %10 ila %15 performans artışı ve güç tüketiminde %25 ila %30 azalma. Ek olarak, N2 düğümüne geçişin çip yoğunluğunu yaklaşık 1,15 kat arttırması öngörülüyor; bu da önemli bir gelişme. Toplamda, TSMC’nin N2 ailesinin en az üç düğüm içermesi bekleniyor: vanilya N2, performansı geliştirilmiş N2P ve HPC odaklı N2X.

(Resim kredisi: TSMC)

TSMC’nin N2 proses teknolojilerinin tamamı, yonga üreticilerinin performansı artırmak için kanal genişliğini artırmasına veya güç tüketimini azaltmak için azaltmasına olanak tanıyan her yönüyle geçit (GAA) nano tabaka transistörlerine dayanacak. Bu, hem çip tasarımcılarına hem de fabrikalara oldukça fazla esneklik sağlıyor ancak TSMC, N2 ailesi ve NanoFlex teknolojisiyle bir adım daha ileri gidiyor.

(Resim kredisi: TSMC)

NanoFlex, çip tasarımcılarının çeşitli kitaplıklardan (yüksek performans, düşük güç, yüksek yoğunluk) standart hücreleri aynı blok içinde karıştırıp eşleştirmesine olanak tanıyarak çip performansını, gücü ve alan özelliklerini optimize eder. TSMC’nin N3 üretim düğümleri halihazırda FinFlex teknolojisini destekleyerek benzer yetenekler sağlıyor ancak bariz nedenlerden dolayı GAA nano tabaka transistörlerinde işler çok farklı çalışıyor. TSMC, özel tasarımlarla %15’e kadar daha yüksek performans bekleyebileceğimizi söylüyor ancak bu elbette en iyi senaryo.



genel-21