Canon, Intel, Samsung ve DARPA tarafından desteklenen ABD enstitüsüne ilk nanobaskı litografi aracını teslim etti
Canon, geçen yıl geleneksel DUV veya EUV sistemlerini kullanmadan çip üretmek için…
Çinli şirket, yerli çip üretimi için 65 nm kapasiteli litografi makinesi geliştirdi – sistem hala TSMC ve Nikon’un gerisinde kalıyor
Çin hükümeti, ABD yaptırımları ortasında yabancı çip üretim araçlarına olan bağımlılığı azaltmak…
Samsung, İlk Yüksek NA EUV Litografi Makinesini Gelecek Çeyreğe Kadar Satın Alacak, Ticari Uygulamanın 2025’in Sonlarında Beklenmesi Bekleniyor
Samsung, önümüzdeki çeyreğe kadar ilk ileri teknolojiye sahip High-NA EUV litografi ekipmanını…
Intel 18A Panther Lake ve Clearwater Forest CPU’ları başlatılıyor — yeni nesil litografi düğümüne doğru istikrarlı bir ilerleme
Salı günü Intel, dökümhane girişimi için önemli bir teknoloji olan 18A (1,8…
