Samsung, önümüzdeki çeyreğe kadar ilk ileri teknolojiye sahip High-NA EUV litografi ekipmanını eklemeyi planlıyor ve bu da sektörün yarı iletken yarışını ateşliyor.
Samsung, Yüksek NA EUV Litografi Ekipmanlarını Kullanma Konusunda Intel ve TSMC’nin Gerisinde Ancak Rekabet Şiddetli
High-NA ekipmanlarının kullanımı artık çip üreticileri için “premium” bir şey olarak görülüyor ve yakın zamanda Intel’in ASML’nin High-NA Extreme Ultraviyole (EUV) litografi ekipmanından beş ila altı kit almayı nasıl başardığını ve bunun nasıl göründüğünü yakın zamanda rapor etmiştik. Üç büyük yarı iletken firmasından (TSMC, Intel ve Samsung) Koreli dev, ASML’den yeni nesil EUV litografi araçlarını alan son firma oldu. dayalı olarak Sedaily’den raporSamsung, ekipmanı ya önümüzdeki çeyrekte ya da 2025’in başında almayı ve diğer yarı iletken firmalarıyla aynı konuma getirmeyi planlıyor.
Kore basınının raporu, Samsung’un, 8 nm çözünürlüğe ve 13,5 nm EUV ışık dalga boyuna sahip ASML’nin Twinscan EXE:5000 High-NA litografi ekipmanını almaya hazır olduğunu öne sürüyor. Sistem, çip üreticilerinin 1,7 kat daha küçük çipler üretmesine olanak tanıyacak ve transistör yoğunlukları 2,9 kata kadar artacak. ASML, Twinscan EXE:5000’in sektördeki en yüksek üretkenliğe sahip olduğunu söylüyor ve Koreli devin ekipmanı ele geçirmesiyle, firmanın yarı iletken ekosisteminde dikkate değer gelişmeler bekleyebileceğimizi rahatlıkla söyleyebiliriz.
Samsung’un ilk High-NA ekipman grubunu firmanın Ar-Ge Hwaseong Kampüsü’nde kurmayı planladığı söyleniyor, ancak gelişmiş litografi aracının ticari uygulamasını ne zaman bekleyebileceğimiz henüz belli değil. Bu tür ekipmanların kurulumunun kendi zorlukları vardır, ancak Samsung’un bu süreçte herhangi bir engelle karşılaşmadığı göz önüne alındığında, High-NA ekipmanının 2025 sonuna kadar yetersiz kullanılmasını bekleyebiliriz.
Intel, TSMC ve Samsung’un High-NA’ya erişimi olmasıyla, yarı iletken pazarlarının bundan sonra büyüyeceği kesin ve bildiğimiz kadarıyla Intel, 14A düğümü için High-NA kullanmayı planlıyor, TSMC ise TSMC’yi kullanıyor. bunu 2nm düğüm sınıfında kullanabilir. Samsung için bu şu anda doğrulanmadı ancak Koreli devin endüstri standartlarına uymasını bekliyoruz, bu da bizi birinci nesil 2nm işleminin High-NA kullanabileceğine inanmaya yöneltiyor.
