Amerikan laboratuvarı, ‘EUV’nin ötesinde’ litografiyi etkinleştirebilecek ve 10 kat güç verimliliği artışı sağlayabilecek bir BAT lazeri geliştiriyor
Lawrence Livermore Ulusal Laboratuvarı çalışma EUV araçlarında kullanılan CO2 lazerlerden 10 kat…
Samsung temsilcisi, High-NA EUV’nin mantık üretimi için iyi olduğunu ancak bellek açısından maliyet sorunları olabileceğini söylüyor – Intel, ASML ve diğerleri daha olumlu görüşler paylaşıyor
San Jose, Kaliforniya'daki SPIE Gelişmiş Litografi + desenleme konferansında, litografik ekosistemin farklı…
