Rus hükümeti, X-ray litografi araştırmalarını kolaylaştırmak için 670 milyon ruble (8,5 milyon dolar) sağlayacak. raporlar Zelenograd. Moskova Elektronik Teknolojisi Enstitüsü (MIET), Ticaret ve Sanayi Bakanlığı’ndan gelen bu fonları kullanacak ve bir X-ışını senkrotronu ve/veya plazma kaynağına dayalı maskesiz bir litografik makine geliştirme planlarını ilerletecek. Sonuç olarak, bu makinelerin 28nm, 16nm ve daha küçük tasarımlara sahip yarı iletken gofretlerin işlenmesini sağlaması umulmaktadır.
Batı yaptırımları, yalnızca gündelik ürünler ve tüketici teknolojileri üzerinde değil, aynı zamanda yerel sanayi (ve ordu) için arzu edilebilecek yarı iletkenler üzerinde de Rusya’ya ağır bir yük bırakıyor. Geçen ayın sonunda, Rus hükümeti yerel araştırma enstitülerine, yerli yarı iletken işi için hayati önem taşıyan makineler geliştirmek için ciddi bir fon sağlamaya karar verdi. Rus hükümeti de Çin ile daha yakın çalışmanın yollarını düşünüyor.
Hollanda merkezli ASML, dünya çapında son derece gelişmiş fabrikaların kalbinde yer alan EUV litografi makinelerini tedarik etti. TSMC, Samsung ve Intel gibi şirketler bu makineler için jokey yapıyor, ancak ileri teknoloji yaptırım listelerinde bunları satın almasına izin verilmeyen ülkeler var. Rusya ve Çin, ASML kara listesinin en dikkate değer üyeleridir.
İlginç bir şekilde kaynak, Rusya’nın 2010’larda EUV litografi gelişimine dahil olduğunu belirtiyor. Önde gelen bilim adamları, çalışmanın coğrafi izolasyonda yapılamayacağına karar verdiler, bu nedenle araştırmaların bir kısmı (özellikle radyasyon kaynakları ile ilgili) ASML ile paylaşıldı ve ASML tarafından uygulandı.
Rusya’daki diğer ilginç geçmiş çalışmalar, 1980’lerin ortalarında Zelenograd’da synchrotron X-ışını radyasyon kaynağının geliştirilmesini içeriyordu. Bu teknoloji, görünüşe göre ileri görüşlü bilim adamları tarafından mikroelektronik işleme ihtiyaçları için geliştirildi, ancak planlar takip edilmedi. Şimdi bu yeni finanse edilen X-ray litografi araştırmasında kullanılacak, ancak buna dayalı yeni cihazlar 2023 yılına kadar hazır olacak.
MIET, yalnızca X-ray litografi planlarıyla bir süreci iyileştirmekle kalmıyor. Derin araştırmalara dalmak zorunda kalacak. MIET’te Mikrosistemler ve elektronik direktörü Nikolai Dyuzhev, “Projemiz benzerleri olmayan bir araştırma çalışmasıdır: dünyada hiç kimse bu ilkeler üzerinde maskesiz litografi yapmamıştır” dedi.
Yukarıda, bitmiş tasarımın 28nm, 16nm ve altı için çekim yapacağını belirtmiştik, ancak X-ışını litografisinin “10nm’den daha iyi bir çözünürlükte” çalışma potansiyeline sahip olduğu zaten iddia ediliyor. X ışınları, EUV radyasyonundan daha kısa dalga boyuna sahiptir.
X-ışını litografi araştırmasının bu yıl Kasım ayından itibaren ciddi bir şekilde başlaması umulmaktadır. O zamana kadar, bir prototip X-ışını litografi makineleri için önerilen teknik özellikler ve fizibilite çalışmaları yapılmış olmalıydı.
Dyuzhev’e göre, herhangi bir yeni X-ışını litografi makinesini kullanan test üretimi çalışmaları için beş yıl veya daha fazla beklememiz gerekecek.
Bütün bunlar göz önüne alındığında, Rus X-ışını litografi programı pratik açıdan pek bir şey ifade etmeyecek gibi görünüyor. Bununla birlikte, yarı iletken üretim bilimi bünyesine bazı değerli katkılar sağlayabilir.
