Geçen yılın sonlarında ASML, ilk yüksek NA aşırı ultraviyole (EUV) litografi sistemini Intel’e göndermeye başladı ve geçtiğimiz hafta sonu işlemci devi, aracın Hillsboro, Oregon yakınlarındaki fabrikasına kurulumunu kapsayan bir video yayınladı. Makine öncelikle araştırma ve geliştirme amacıyla kullanılacak.
ASML’nin Twinscan EXE:5000 High-NA EUV makinesi gerçekten çok büyük. Toplamda 330.000 pound ağırlığındaki makineyi taşımak için 250 kasa gerekiyor.
Videodaki konteyneri bir kargo uçağı Hollanda’dan Portland, Oregon’a taşıdı ve ardından bir kamyon, aletin temel bileşenlerinden birini teslim etti. Aşağıdaki videoda görebileceğiniz gibi ünite fabrikada kuruldu ancak makineyi tamamen kurmak 250 ASML ve Intel mühendisinin yaklaşık altı ayını alacak.
Ancak Twinscan EXE:5000 High-NA EUV makinesi tamamen monte edilmiş olsa bile ASML ve Intel mühendislerinin onu kalibre etmesi gerekecektir. Bu aylar olmasa da haftalar sürecektir. İlk olarak, iki şirket, ASML mühendislerinin yakın zamanda Hollanda’nın Veldhofen kentindeki High-NA EUV aracıyla başardığı, fotonların plakalara dirençle çarptığı cihazı ‘aydınlatmak’ zorunda kalacak.
ASML’nin High-NA EUV Twinscan EXE aracı, 8nm çözünürlükte baskı yapabilir ve tek pozlamayla 13nm çözünürlükle sınırlı olan halihazırda kullanılan Low-NA EUV tarayıcıların performansını önemli ölçüde artırır. Bu ilerleme, günümüzden yaklaşık 1,7 kat daha küçük transistörlerin oluşturulmasına olanak tanıyor ve bu da transistör yoğunluğunun neredeyse üç katına çıkmasını sağlıyor. Sektörün 2025 ile 2026 arasında ulaşmayı umduğu bir hedef olan 3 nm’nin altındaki proses teknolojilerini kullanarak çip üretmek için 8 nm kritik boyutlara ulaşmak çok önemli.
Intel, Twinscan EXE:5000 litografi aracını esas olarak High-NA EUV teknolojisinin nasıl kullanılacağını öğrenmek için kullanacak. Şirket, Yüksek NA litografinin kullanımını Intel 18A işlem teknolojisiyle (her ne kadar yüksek hacimli üretim için olmasa da) test etmeyi ve sonunda bunu Intel 14A üretim süreciyle yüksek hacimli üretim için benimsemeyi planlıyor.
ASML daha önce yeni nesil High-NA EUV yonga yapım aracının mevcut Low-NA EUV litografi araçlarının fiyatının iki katından fazla, yani yaklaşık 380 milyon dolar (350 milyon €) olacağını açıklamıştı. Ancak kesin fiyat, cihazın gerçek konfigürasyonuna bağlı olacaktır. Intel CEO’su Pat Gelsinger yakın zamanda makinenin maliyetinin ‘400 milyona yakın’ olduğunu söyledi.
Buna karşılık, mevcut Low-NA Twinscan NXE EUV sistemlerinin fiyatı, belirli modellere ve konfigürasyonlara bağlı olarak varyasyonlarla birlikte yaklaşık 183 milyon $ (170 milyon €) seviyesindedir. Intel, bu son teknoloji üretim aracını alan ilk şirket olabilir, ancak ASML, High-NA EUV makineleri için Intel, Samsung, SK Hynix ve TSMC gibi şirketlerden “10 ila 20” sipariş aldığını açıkladı.
