Japon araştırmacılar çip yapımı için parçacık hızlandırıcıyı test ediyor – araştırmacılar EUV benzeri litografi yeteneklerini iddia ediyor
Intel, Samsung Foundry ve TSMC, en yeni üretim düğümlerinde çip oluşturmak için ASML’nin yarı iletkenleri 13 nm çözünürlükte ‘basma’ kapasitesine sahip EUV litografi makinelerini kullanıyor. Ancak lazerle üretilen plazma (LPP)…