TSMC’nin, Samsung’un Son Teknoloji Litografiyi Kullanarak Exynos Yonga Setlerini Seri Üretimine Yönelik İddia Edilen Teklifini Reddettiği Söylentileri Var
Samsung'un yeni nesil 3nm GAA prosesindeki verimini artırma konusundaki sorunları iyi bir…
Amerikan laboratuvarı, ‘EUV’nin ötesinde’ litografiyi etkinleştirebilecek ve 10 kat güç verimliliği artışı sağlayabilecek bir BAT lazeri geliştiriyor
Lawrence Livermore Ulusal Laboratuvarı çalışma EUV araçlarında kullanılan CO2 lazerlerden 10 kat…
