ABD yaptırımları, Huawei’yi modern tek çipli sistemlerden uzaklaştırdı ve genel olarak SoC’leri ve CPU’ları ileri teknolojik standartlara göre üretememek Çinli (Tayvanlı olmayan) şirketler için bir sorun. Ancak yakın gelecekte bu sorun çözülebilir: Huawei, ultra-sert ultraviyole (EUV) fotolitografi teknolojisi için patent başvurusunda bulundu. Ve bir patent, hazır bir litografinin yakında ortaya çıkacağı anlamına gelmese de, Huawei’nin hazır bir çözüm oluşturmak için yeterli kaynağı (hem finansal hem de entelektüel) var.
Huawei’nin Kasım ayı ortasında Devlet Fikri Mülkiyet Ofisi’ne sunduğu patent 202110524685X numaralı. EUV litografın kendisini ve 13,5 nm ışık kaynağı, bir dizi yansıtıcı ayna ve “kontrol teknolojileri” dahil olmak üzere temel bileşenlerini anlatıyor.
Derin ultraviyole fotolitografi makineleri çeşitli şirketler tarafından geliştirildi, ancak yalnızca Hollanda’dan ASML başarılı oldu. ASML’nin bu tür makineleri tedarik ettiği ortaklardan – Intel, Samsung ve TSMC – 10 yıldan fazla geliştirme ve büyük mali enjeksiyonlar almasına rağmen. Ve örneğin Çinli SMIC, cihazın ücretini zaten ödeyemedi: ABD gereksinimleri, ASML’nin Çin’e ultra-sert ultraviyole fotolitografi sistemleri satmasını yasakladı. Bu nedenle Çin’in kendi cihazına bu kadar çok ihtiyacı var ve Huawei şimdiden onun yaratılmasına yönelik büyük bir adım attı.
