ASML duyuruldu Hollanda hükümetinin iki litografi sisteminin ihracat lisansını iptal ettiğini ve artık bu araçları Çinli müşterilere gönderemeyeceğini söyledi. ASML’nin Çin’deki müşterilerinin büyük çoğunluğu olgun üretim düğümlerine odaklanırken, bu makineler ileri süreç teknolojileri için tasarlandığından ASML üzerindeki etkisi önemli olmayacak. Ancak Çin’in daha yeni çip üretim teknolojilerine erişimini daha da kısıtlıyor.
Söz konusu araçlar, şirketin en gelişmiş derin ultraviyole (DUV) makineleri olan ASML’nin Twinscan NXT:2050i ve NXT:2100i litografi sistemleridir. Her iki makine de ≤38nm çözünürlük kapasitesine sahip ve çoklu desenle de olsa 7nm ve hatta 5nm sınıfı proses teknolojilerinde mantık çipleri yapmak için kullanılabiliyor. Her iki makine de saatte 295’e kadar levha işleyebiliyor ve hem mantık hem de bellek üretimi için kullanılabiliyor.
NXT:2100i ayrıca, NXT:2050i’ye kıyasla %10’a kadar (0,9 nm) iyileştirilmiş tek makine kaplaması ve %13 (1,3 nm) oranında eşleşen makine kaplaması sağlayan yeni donanım ve yazılım yenilikleri de içeriyor.
Şimdilik 7nm sınıfı proses teknolojisine sahip tek Çinli çip üreticisi SMIC. Daha önce ithal edilen çoklu desenli DUV makinelerini kullanır. Bu yeni kısıtlamaların bir sonucu olarak 7 nm çıkışını artırmak için ek araçlar elde edemeyecek. Bu, SMIC’in 7nm üretim düğümünü kullanan birkaç Çinli çip tasarımcısından biri olan Huawei’yi etkileyebilir.
Her iki makine de ABD’de tasarlanan teknolojileri kullandığından, her ikisi de ABD ve Hollanda ihracat kurallarına tabidir. ABD, 14nm/16nm ve daha gelişmiş fabrikasyon düğümlerinde mantık çipleri yapmak için kullanılabilecek levha fabrikası ekipmanının sevkiyatına izin vermiyor, dolayısıyla ASML bu araçları zaten Çinli müşterilere gönderemez.
ASML tarafından yapılan bir açıklamada, “ABD hükümetiyle yapılan son görüşmelerde ASML, ABD ihracat kontrol düzenlemelerinin kapsamı ve etkisi konusunda daha fazla açıklama elde etti” deniyor. “En son ABD ihracat kuralları (17 Ekim 2023’te yayınlandı), sınırlı sayıda gelişmiş üretim tesisi için belirli orta kritik DUV daldırma litografi sistemlerine kısıtlamalar getiriyor.”
