La empresa japonesa Canon present\u00f3 recientemente su flamante equipo de fabricaci\u00f3n de semiconductores basado en litograf\u00eda de nanoimpresi\u00f3n. Ofreci\u00e9ndolo a un precio significativamente m\u00e1s bajo que…<\/p>\n
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La empresa japonesa Canon present\u00f3 recientemente su flamante equipo de fabricaci\u00f3n de semiconductores basado en litograf\u00eda de nanoimpresi\u00f3n. Al ofrecerla a un precio significativamente inferior al de su competidor, la empresa holandesa ASML, esta m\u00e1quina puede ser utilizada por empresas con presupuestos m\u00e1s limitados pero que deseen producir chips de \u00faltima generaci\u00f3n.<\/p>\n
Canon conquista el mercado ASML<\/h2>\n
S\u00f3lo un pu\u00f1ado de empresas de semiconductores tienen la oportunidad de invertir en m\u00e1quinas de litograf\u00eda ultravioleta extrema (EUV). Este equipo es necesario para la producci\u00f3n en masa de componentes avanzados. Actualmente, ASML es el \u00fanico proveedor y los ofrece a precios exorbitantes. Para ofrecer una alternativa m\u00e1s asequible, Canon decidi\u00f3 confiar en la litograf\u00eda de nanoimpresi\u00f3n, un nuevo proceso que desarroll\u00f3 con la ayuda del especialista en impresi\u00f3n japon\u00e9s Dai Nippon Printing y el fabricante de chips de memorias Kioxia.<\/p>\n
A diferencia de la litograf\u00eda EUV que funciona gracias a un juego de reflejos y reflejos de luz, la tecnolog\u00eda \u201c Nanoimpresi\u00f3n<\/em> \u00bb consiste en liberar gotas de l\u00edquido directamente sobre las obleas, en lugares muy precisos. La nanoimpresi\u00f3n sigue siendo mucho m\u00e1s lenta que la EUV, lo que limita la producci\u00f3n de las empresas, pero a\u00fan les permite fabricar chips de alta calidad.<\/p>\n\u201c Basado en nuestra tecnolog\u00eda de nanoimpresi\u00f3n, nuestro equipo allana el camino para que los peque\u00f1os fabricantes de semiconductores produzcan chips avanzados que actualmente siguen siendo dominio exclusivo de los gigantes de la industria de los semiconductores.<\/em> \u00bb subraya Fujio Mitarai, director general de Canon. \u201c El precio de nuestra m\u00e1quina ser\u00e1 significativamente m\u00e1s bajo que el de las m\u00e1quinas EUV de ASML,<\/em> \u00bb asegura.<\/p>\nPor el momento, no hay indicios de si Canon suministrar\u00e1 a Rapidus, la entidad creada por el gobierno japon\u00e9s para volver a ser l\u00edder en semiconductores. ASML tambi\u00e9n est\u00e1 un paso por delante de su competidor en este \u00e1mbito. En septiembre, la empresa holandesa ten\u00eda previsto establecer uno de sus centros de soporte t\u00e9cnico en la isla de Hokkaido, con el objetivo de apoyar la producci\u00f3n de la f\u00e1brica de chips Rapidus prevista para finales de 2025.<\/p>\n
Por su parte, el mercado chino no podr\u00e1 beneficiarse de los \u00faltimos avances de Canon en m\u00e1quinas litogr\u00e1ficas. \u201c Tengo entendido que las exportaciones de tecnolog\u00eda de grabado superior a 14 nan\u00f3metros est\u00e1n prohibidas, por lo que no creo que podamos vender nuestro producto en China.<\/em> \u00bb especifica Fujio Mitarai, refiri\u00e9ndose a las restricciones estadounidenses dirigidas a las empresas chinas especializadas en semiconductores.<\/p>\n<\/div>\n
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