South China Morning Post’a göre Çin, ülke içinde çip üretimine yönelik yeni olanaklar araştırıyor. Bunlardan biri de parçacık hızlandırıcıyla çalışan gelişmiş bir taşbaskı. Tsinghua Üniversitesi’nden bir ekip, son teknoloji ürünü proje için bir inşaat alanı seçmek üzere Çin’in kuzeyindeki Hebei Eyaletindeki Xiongang Yeni Bölgesi yetkilileriyle halihazırda aktif görüşmelerde bulunuyor. Plan, 100-150 metre devre uzunluğuna sahip, hızlandırıcı ışının çok “ince” çiplerin üretimi için yüksek kaliteli bir ışık kaynağına dönüşeceği bir parçacık hızlandırıcı inşa etmektir.
Çip yapımında kullanılan makinelerin boyutlarının küçültülmesini savunan, litografi üretiminde dünya lideri olan Hollanda Gelişmiş Yarı İletken Malzeme Litografisi’nin (ASML) aksine, Çin projesi, tek bir etrafında birden fazla litografi makinesini barındıracak devasa bir fabrikanın inşasını içeriyor. gaz pedalı. Bu yaklaşım, tek çipli sistemlerin seri üretimini ve düşük üretim maliyetini sağlayacaktır.
Şu anda EUV litografi kullanılarak 7nm çipler üretiliyor ve ASML, makineleriyle pazara hakim durumda (şirket geçen yıl 180 EUV litografi teslim etti ve bu yıl 60 tane daha teslim etmesi bekleniyor). Ve bu teknoloji en çok çalışılan ve güvenilir olduğu söylenebilir olsa da, Çinliler farklı bir yola gitmeye karar verdi. Profesör Tang Chuanxian liderliğinde Tsinghua Üniversitesi’nde alternatif bir proje üzerinde çalışmalar 2017 yılından bu yana sürüyor ve Huawei de bu projeye katılıyor. Temel prensip, kararlı durum mikro gruplama (SSMB) teknolojisini kullanan bir lazer ışık kaynağının oluşturulmasıdır. SSMB’nin ilkeleri ilk olarak 2010 yılında Stanford Üniversitesi’nden Profesör Zhao Wu tarafından tanımlandı. Zhao, ünlü fizikçi Yang Zhenning’in eski bir öğrencisidir.
SSMB, yüklü parçacıkların enerjisinin dar saçılımlı bir radyasyon kaynağı olarak kullanılmasını içerir. “Cihaz, 0,3 mm dalga boyuna sahip terahertz dalgalarından 13,5 nm dalga boyuna sahip EUV dalgalarına kadar yüksek kalitede radyasyon üretebilmektedir.“, diye açıkladı Zhao. Başka bir deyişle SSMB, EUV litografiye kıyasla daha yüksek ortalama güce sahip, neredeyse ideal bir ışık kaynağı sağlar.
Her ne kadar bilim adamları bunların geliştirilmesinin Çin için önemini anlasalar da, çalışan bir SSMB litografisinin yaratılması yakın gelecekte mümkün görünmüyor.
“Bağımsız EUV litografi makinemizin hâlâ gidecek uzun bir yolu var, ancak SSMB tabanlı EUV ışık kaynakları bize onaylanmış teknolojilere bir alternatif sunuyor” dedi Profesör Tan. “Kullanılabilir bir litografi sistemi geliştirmek, SSMB ışık kaynaklarına dayalı sürekli teknolojik yenilikleri ve madencilik ve işleme endüstrileriyle işbirliğini gerektirir.“, ekledi.
