Canon yakın zamanda tanıtıldı 5nm sınıfı proses teknolojisinde çipler yapmak için kullanılabilen ve ASML’nin aşırı ultraviyole (EUV) litografi araçlarıyla rekabet edebilen nanoimprint litografi (NIL) aracı. Görünen o ki Canon, aracını ASML’nin EUV litho makinelerinin çok altında bir fiyatla fiyatlandırmak istiyor; bu, büyük kaynaklara sahip olmayan küçük çip üreticileri için gelişmiş çip üretimine erişimi demokratikleştirebilecek. Bloomberg.
“Fiyat, ASML’nin EUV’sinden bir basamak daha az olacak [litho tool]Canon’un genel müdürü Fujio Mitarai, Bloomberg ile yaptığı röportajda şunları söyledi: “Nanoimprint teknolojisinin EUV’leri geride bırakmasını beklemiyorum, ancak bunun yeni fırsatlar ve talep yaratacağından eminim. Halihazırda müşterilerimizden gelen birçok soruyu yanıtlıyoruz.”
Günümüzün 0,33 sayısal açıklığa sahip EUV sistemlerinin maliyeti 150 milyon dolardan fazladır. Canon, NIL litografi makinesinin yaklaşık 15 milyon dolara mal olacağını ve bunun da küçük şirketlerin gelişmiş üretim düğümlerinde çip üretmesinin kapılarını açacağını ima ediyor. Ancak nihai fiyatlandırma henüz belirlenmedi ve Canon’un kendisi bile nanoimprint litografinin geleneksel EUV ve DUV tarayıcıların yerini alacağına inanmıyor.
Geleneksel derin ultraviyole (DUV) ve aşırı ultraviyole (EUV) fotolitografi sistemleri, özel bir fotomask kullanarak dirençli katmanlı bir plaka üzerine bir devre deseni yansıtır. Buna karşılık, nanobaskı litografisi (NIL), devre tasarımıyla desenlendirilmiş bir maske (veya daha doğrusu bir kalıp) kullanır ve bu daha sonra doğrudan levha üzerindeki direncin üzerine damgalanır. Bu damgalama yöntemi, deseni aktarmak için optik bir sisteme olan ihtiyacı ortadan kaldırır; bu da karmaşık devre tasarımlarının kalıptan levhaya daha hassas bir şekilde kopyalanmasına yol açabilir. Teorik olarak NIL, tek bir adımda karmaşık iki boyutlu veya üç boyutlu devre modelleri oluşturabilir, bu da potansiyel olarak üretim maliyetlerini de azaltabilir. Yine de bir sorun var. Fotolitografi tüm levhaların aynı anda (birden fazla adımda da olsa) işlenmesine izin verirken, NIL seri bir işlemdir ve daha yavaş olabilir.
Ayrıca NIL için önemli bir endişe, baskı aşaması sırasında kalıp ile alt tabaka arasındaki doğrudan temastan dolayı kusurları toplama eğilimidir. Kalıp veya alt tabaka üzerindeki herhangi bir parçacık veya yabancı madde kusurlara neden olabilir ve potansiyel olarak üretim sürecinin verimini ve güvenilirliğini tehlikeye atabilir. Bunu önlemek için sıkı bir süreç yönetimi ve aynı üretim kalitesini sağlamak için ultra temiz bir ortam gerekir.
Canon’un pazara girişi, jeopolitik gerilimlerin ASML’nin EUV ve gelişmiş DUV sistemlerinin Çin’e ihracatının yasaklanmasına yol açtığı bir zamanda gerçekleşti. Bu ambargo, yanlışlıkla Japonya’nın Temmuz ayında uygulamaya koyduğu sıkı çip üretimi ihracat kontrollerine açıkça dahil edilmeyen Canon’un yeni teklifleri için potansiyel bir niş yarattı. Ancak Canon’un başkanı, şirketin 14 nm’nin altındaki çiplerin üretimine izin vermesi nedeniyle aracını Çin’e gönderemeyeceğine ve bu tür araçların Japon hükümetinden ihracat lisansları gerektirebileceğine inanıyor.
Mitarai, “Anladığım kadarıyla 14 nm teknolojisinin ötesindeki herhangi bir şeyin ihracatı yasaklanmıştır, dolayısıyla satış yapabileceğimizi düşünmüyorum” dedi.
