ASML ve IMEC bu hafta IMEC’in araştırmacılarının ve geliştiricilerinin ASML’nin en son araçlarına erişmesini sağlamak için tasarlanmış beş yıllık bir ortaklık kurdu. Hareket, ASML’nin en son litografisini (yüksek-NA dahil), metroloji ve muayene araçlarını gerektirecek-2NM altı proses teknolojilerine odaklanmıştır. IMEC, akademiden mühendislerin ve çeşitli şirketlerin araştırmaları için en son ekipmanlara sahip olmasını sağlarken, ASML araçlarının önde gelen süreç teknolojilerine dahil edilmesini sağlayacaktır.
Ortaklık kapsamında IMEC, ASML’nin menzil üstü ikiz NXT (DUV), Twinscan NXE (0.33 sayısal diyafram optikleri olan düşük-NA EUV araçları) ve Twinscan exe (yüksek NA EUV araçlarına (WFE), 0.55 sayısal tayin optik sistemleri ile (yüksek-NA EUV araçlarına (WFE) erişim kazanacaktır. Buna ek olarak, IMEC ASML’nin GeictStar Optik Metroloji Çözümleri ve HMI’nın tek ve çok ışınlı denetim araçlarını tesislerine dahil edecektir.
Bu araçlar IMEC’in Belçika’daki pilot hattına kurulacak ve AB ve Flaman tarafından finanse edilen nanoik pilot hattına dahil edilecektir.
ASML’den en yeni ekipman, yeni nesil yarı iletken üretim teknolojilerini, özellikle de 2nm altındaki imalat teknolojilerini geliştirmek için kullanılacaktır. 2nm’nin altındaki imalat düğümlerinde verimli üretim için, litografi araçlarının tek bir pozlama ile 8nm’lik bir çözünürlüğü desteklemesi gerektiğine inanılmaktadır, bu da sadece yüksek NA EUV araçlarının elde edebileceği bir şeydir. Bununla birlikte, her yüksek NA EUV sisteminin maliyeti 350 milyar dolar, bu da yeni oyuncuların veya araştırmacıların bir tane almasını imkansız hale getiriyor.
ASML ve IMEC araştırmacıları daha önce öncelikle ASML’nin Hollanda’nın Veldhoven kentindeki özel araştırma tesislerinde yüksek NA (0.55 NA EUV) araçlarıyla çalışmışlardı. ASML, IMEC ve diğer ortaklarla ilk testler, değerlendirmeler ve işbirlikçi araştırmalar için bu birinci nesil yüksek NA EUV makinelerini kendi sitelerinde kurdu.
Şimdi, yeni anlaşma kapsamında IMEC, Leuven, Belçika’daki kendi araştırma hatlarında, özellikle son teknoloji ürünü pilot tesisinde ve AB ve Flaman tarafından finanse edilen nanoik pilot hattında doğrudan yüksek NA ekipmanlarına doğrudan erişime sahip olacak. Bu, IMEC araştırmacılarının ilk kez yüksek NA EUV teknolojisini doğrudan kendi tesislerinde kullanabileceğini ve bu da çalışmalarını hızlandıracak. IMEC’nin yüksek NA EUV teknolojisine erişim sağlanması, bir sonraki Gen-7A projesine (IPCEI22201) dahil edildi ve Hollanda hükümeti tarafından Ortak Avrupa Çıkarları’nın (IPCEI) önemli bir projesi olarak finanse edildi.
IMEC Başkanı ve CEO’su Luc Van Den Hove, “ASML ile uzun süredir devam eden benzersiz ortaklığımıza devam etmekten heyecan duyuyoruz ve endüstrinin 30 yılı aşkın bir süredir en gelişmiş desen çözümlerine erişimi sunuyor.” Diyor. “ASML’nin tam ürün portföyünün dahil edilmesi, pilot hattımızın yeteneklerini genişletmemize ve daha da olgunlaştırmamıza izin verecek ve tüm yarı iletken ekosistemini, AI-tanıtımlı teknolojik ilerlemeler sağlıyor. IMEC, ortaklığımızın zorluklarını ele almak için en gelişmiş Ar-Ge ile ilgili olarak, bu, ortaklığımızın büyük bir şekilde dahil edilmesine yönelik güçlü bir şekilde odaklanıyor.
Mantık yongaları için yeni nesil alt-2nm düğümlerde işbirliği içinde çalışmanın yanı sıra, ASML ve IMEC, DRAM süreç teknolojileri, silikon fotonikler ve gelişmiş ambalaj çözümleri üzerinde işbirliği yapmayı planlıyor.
