ASML Çarşamba günü yaptığı açıklamada, ikinci High-NA EUV litografi sistemini Çin’e göndermeye başladığını söyledi. başka bir müşteri. Duyuru, önde gelen çip üreticileri arasında yeni nesil ekstrem ultraviyole (EUV) litografiye büyük bir ilgi olduğunun altını çiziyor. Bu arada, ASML müşterilerinden hangisinin 0,55 sayısal açıklık projeksiyon optiklerine sahip bir EUV aracı alan ikinci şirket olduğu belli değil.
“High-NA veya 0,55 NA EUV ile ilgili olarak ilk sistemimizi bir müşteriye gönderdik ve bu sistem şu anda kurulum aşamasındadır.” söz konusu ASML’nin baş işletme sorumlusu Christophe Fouquet, şirketin analistler ve yatırımcılarla yaptığı kazanç konferans görüşmesinde. Bu ay ikinci sistemin sevkiyatına başladık, kurulumu da başlamak üzere.”
ASML, ilk High-NA EUV litho aracını (Twinscan EXE:5000) 2023’ün sonunda Intel’e göndermeye başladı. Intel, bu tür makinelerin nasıl kullanılacağını öğrenmek için sistemi kullanacak ve sistemi Intel ile seri üretime geçirecek. 14A’nın üretim süreci birkaç yıl uzakta. Intel, High-NA EUV tabanlı süreç teknolojileri üzerinde yeterince erken çalışmaya başlayarak, önümüzdeki yıllarda rekabet avantajı haline gelmeye hazır olan yeni nesil litografi için endüstri standartlarını geliştirebilecek.
CBO, “Şubat ayındaki SPIE endüstri konferansı sırasında, Veldhoven’daki ortak ASML-Imec High-NA laboratuvarımızda bulunan High-NA sistemimize ilk ışığını duyurduk” dedi. “O günden bu yana, 10 nm’nin altında yeni bir rekor çözünürlükle ilk görüntüleri elde ettik ve önümüzdeki haftalarda levhaları ortaya çıkarmaya başlamayı bekliyoruz. Tüm High-NA müşterileri, süreç geliştirmeye erken erişim için bu sistemi kullanacak.”
TSMC ve Rapidus, seri üretim için Yüksek NA EUV litografi sistemlerini benimsemek için acele etmiyor gibi görünse de, bunu ilerleyen zamanlarda yapmak zorunda kalacaklar, bu nedenle ASML bu teknolojinin geleceği konusunda iyimser. Aslına bakılırsa dünyanın en büyük levha fabrikası araçları üreticisi, 0,7’den yüksek sayısal açıklığa sahip projeksiyon optiklerine sahip EUV litografi araçları Hyper-NA’yı araştırıyor.
“Müşterilerimizin bizim için ilgisi [High-NA] sistem laboratuvarı yüksektir çünkü bu sistem hem Mantık hem de Bellek müşterilerimizin yol haritalarına Yüksek NA eklemeye hazırlanmalarına yardımcı olacaktır” dedi Fouquet. “0,33 NA’ya kıyasla 0,55 NA sistemi, transistör yoğunluğunda neredeyse 3 kat artışa olanak tanıyan daha iyi çözünürlük sağlar 2nm’nin altındaki Logic ve 10nm’nin altındaki DRAM düğümlerini destekleyen, benzer bir üretkenliğe sahip.”
