Çin hükümeti, ABD yaptırımları ortasında yabancı çip üretim araçlarına olan bağımlılığı azaltmak için iki yeni litografi makinesini tanıtıyor, bildiriyor Güney Çin Sabah PostasıBu makineler kayda değer teknolojik gelişmeler gösterse de hâlâ ASML ve Nikon gibi sektör liderlerinin gerisinde kalıyorlar.
İki makine, argon florür lazerleri içeren derin ultraviyole (DUV) litografi cihazlarıdır. Biri 193 nm dalga boyunda çalışır, 65 nm’nin altında çözünürlük ve 8 nm’nin altında kaplama doğruluğu sunar. Diğeri 248 nm dalga boyunda çalışır, 110 nm çözünürlük ve 25 nm kaplama doğruluğu sunar.
Shanghai Microelectronics Equipment (SMEE) tarafından şu anda yüksek hacimlerde üretilen en iyi Çin lito aleti — SSX600 — 90 nm işlem teknolojisinde yongalar üretebilir. Bu nedenle, yeni DUV aletlerinden biri SSX600’den daha iyi, diğeri ise SSX600’den daha kötüdür. Ancak, ASML’nin NXT:1980Fi ve Nikon’un NSR-S636E’sinin önemli ölçüde gerisindedirler. ASML’nin şu anda ürettiği en az gelişmiş DUV makinesinin çözünürlüğü 38 nm’nin altındadır ve kaplama doğruluğu sadece 1,3 nm’dir. Nikon’un en gelişmiş aletinin de çözünürlüğü 38 nm’dir ve kaplama performansı 2,1 nm’dir.
| Başlık Hücresi – Sütun 0 | NXT:1980Fi | NSR-S636E | Litografi Aracı 1 | Litografi Aracı 2 |
|---|---|---|---|---|
| Işık kaynağı | ArF193nm | ArF193nm | ArF193nm | ArF248nm |
| Çözünürlük | 38nm | 38nm | 65nm | 110nm |
| Projeksiyon Optikleri | 1.35 Yok | 1.35 Yok | ? | ? |
| Saat başına gofret | 330 | 280 | ? | ? |
| Kaplama Performansı | 1,3 nm | 2,1 nm | 8nm | 25nm |
Yeni sistemler Çin’in yerel çip üretim çabalarında bir atılımı temsil ediyor, ancak makineler henüz ticari olarak mevcut değil. Sanayi ve Bilgi Teknolojileri Bakanlığı (MIIT) bu gelişmeleri vurguladı ancak makinelerden sorumlu şirketleri açıklamadı.
Çin, özellikle kritik yarı iletken teknolojisi için uzun zamandır yabancı tedarikçilere olan bağımlılığını azaltmaya çalışıyor, ancak hala ASML’nin makinelerine büyük ölçüde bağımlı. Ancak, ASML’nin gelişmiş DUV araçlarını satmak için Hollanda hükümetinden bir ihracat lisansı alması gerekiyor, bu da temelde Çinli kuruluşların bu makineleri alamayacağı anlamına geliyor.
Devlete ait bir şirket olan SMEE, Çin’in yerli litografi sistemleri geliştirmesi için en iyi şansı olarak görülüyor. Ancak SMEE, ASML ve diğer küresel rakiplerinin önemli ölçüde gerisinde kalıyor. Geçtiğimiz yıl SMEE, 28nm sınıfı işlem teknolojilerini kullanarak çipler üretebilen bir litografi aracını gösterdi. Ancak şirketin hala bu sistemin seri üretimine başlaması gerekiyor.
Bu zorluklara rağmen SMEE ilerleme kaydetti. Şirket, Mart 2023’te EUV litografi teknolojisi için bir patent başvurusunda bulundu. Bu gelişme, uluslararası yaptırımlar ve ticaret kısıtlamalarının getirdiği engellere rağmen bir miktar ilerleme gösteriyor.