ASML ve Intel bu hafta, ASML’nin High-NA litografi sistemi ile ışık kaynağını açarak ve ışığın levhaya ulaşmasını engelleyerek önemli bir dönüm noktasına ulaştığını söyledi. Reuters. Bu, ışık kaynağının ve aynaların doğru şekilde hizalandığını gösterir; bu, getirme sürecinde kritik bir adımdır. Bu ‘ilk ışık’ dönüm noktası, Twinscan EXE:5000 sisteminin ana bileşenlerinden birinin henüz en yüksek performansta olmasa da çalışır durumda olduğunu gösteriyor.
ASML’nin 0,55 sayısal açıklığa sahip projeksiyon optiklerine sahip Twinscan EXE High-NA EUV litho makineleri, tek pozlamayla 13,5 nm çözünürlük sunan tipik Low-NA EUV sistemlerinden daha düşük bir düzeyde, tek pozlamayla 8 nm’ye kadar çözünürlük elde edebilir. Bu sistemlerden ilki şu anda ASML’nin Hollanda’nın Veldhoven kentindeki laboratuvarında bulunuyor; ikincisi ise Hillsboro, Oregon yakınlarındaki bir Intel tesisinde monte ediliyor.
ASML sözcüsü Marc Assinck, “Teknik olarak bu ‘ilk ışık’ aslında ‘döşeme üzerindeki ilk ışık’tır” diye açıkladı. “Işık kaynağı zaten çalışıyordu, şimdi levhanın üzerinde ‘dirençli’ fotonlarımız var.”
ASML uzmanları hâlâ Hollanda’da High-NA aracını kalibre ediyor, dolayısıyla makinenin henüz ilk test modellerini yazdırması gerekiyor.
Gelişme ilk olarak Intel’den Ann Kelleher tarafından San Jose, California’da devam eden SPIE litografi konferansında açıklandı. Intel şu anda ilk Twinscan EXE:5000 litografi makinesini Hillsboro, Oregon yakınlarındaki tesisinde monte ediyor. Makine birkaç ay sonra monte edildiğinde öncelikle süreç geliştirme amacıyla kullanılacaktır.
Yakın zamanda yapılan bir testte Veldhoven makinesi, fotorezistlerle hazırlanan silikon levha üzerinde yeteneklerini başarıyla sergiledi ve bu da devre deseni yazdırmaya hazır olduğunu gösterdi. ‘Grafette ilk ışık’ olarak anılan bu başarı, Yüksek NA EUV litografi alanında ileriye doğru atılmış önemli bir adıma işaret ediyor.
Yüksek NA EUV litografinin önümüzdeki birkaç yıl içinde Intel, Samsung ve TSMC dahil önde gelen çip üreticileri tarafından benimsenmesi bekleniyor. Intel, yakında çıkacak olan Intel 14A düğüm tabanlı çip nesli için sistemi kullanma niyetini zaten ifade etti.
Işık kaynağı, aşırı ultraviyole (EUV) litografi araçlarının en karmaşık parçalarından biridir. Ne ASML ne de Intel, Twinscan EXE ışık kaynağının maksimum performansını (watt değerini) açıklamaz.
