Dünyada, silikon levha üzerine insan saçından daha ince devre desenleri kazımak için kullanılan 200 milyon dolarlık okul otobüsü büyüklüğünde EUV (ekstrem ultraviyole litografi) makinelerini üreten tek bir şirket var. Bu şirket, geçen yıl yaklaşık 26 milyar dolar gelir elde eden Hollandalı bir şirket olan ASML’dir. EUV makineleri 7nm’nin altındaki çipleri üretmek için gereklidir çünkü son teknoloji çiplere paketlenmiş milyarlarca transistörü barındırmak için son derece ince çizgiler çizmeniz gerekir.
Canon, EUV teknolojisine meydan okuyabilecek bir NIL litografi makinesini duyurdu
Geçen hafta,
Canon duyurdu Nanoimprint litografi (NIL) teknolojisinin 5 nm çip üretmek için kullanılabileceğini söylüyor. EUV makineleri, TSMC ve Samsung Foundry tarafından 3nm yongalar üretmek için kullanılıyor ve ASML’den yükseltilmiş bir makine yakında 2nm üretimi gerçekleştirecek. Her iki dökümhane de 2025’e kadar 2nm çipleri seri üretime geçirmeyi planlıyor. Ama Canon’un duyurusuna geri dönelim, olur mu?
ASML’nin yaklaşık bir okul otobüsü büyüklüğündeki aşırı ultraviyole litografi makinesi
Japon şirket NIL’i farklı kılan şeyin ne olduğunu açıklıyor. “Bir devre desenini rezistanslı levha üzerine yansıtarak aktaran geleneksel fotolitografi ekipmanının aksine, yeni ürün bunu devre deseni ile baskılı bir maskeyi levhanın üzerindeki rezistöre bir damga gibi bastırarak yapıyor. Çünkü devre deseni aktarım süreci optik bir mekanizmadan geçmediğinden, maske üzerindeki ince devre desenleri levha üzerinde aslına sadık bir şekilde yeniden üretilebiliyor. Böylece tek bir baskıda karmaşık iki veya üç boyutlu devre desenleri oluşturulabiliyor.”
Canon, maske teknolojisindeki iyileştirmelerle NIL’in en sonunda 2nm çiplerin oluşturulmasına yardımcı olabileceğini söylüyor. Şu anda teknoloji, 5 nm üretime denk gelen minimum 14 nm hat genişliğine sahip devre modellerini aşındırabiliyor. Canon, NIL’in minimum 10 nm’lik bir hat genişliğini desteklemesinin beklendiğini, bunun da 2 nm’lik bir işlem düğümü kullanılarak çip oluşturulmasına eşdeğer olduğunu söylüyor. NIL, özel dalga boyuna sahip bir ışık kaynağı gerektirmediği için çip üretmek için kullanılan güç miktarını azaltabilir.
Basın açıklamasına rağmen Gartner analisti Gaurav Gupta şunları söyledi:
Kayıt, “Canon’un aniden başardığı büyük bir teknik atılım olursa şaşırırdım.” Nanobaskı litografisi bir süredir bir kavramdı ancak kusurlar ve diğer sorunlarla ilgili sorunlar vardı. Bellek yongası geliştiricisi SK Hynix ve elektronik firması Toshiba, 2015 yılında NIL’i geliştirmek için bir anlaşma imzaladı.
Ancak burada ABD’nin hızla çözmesi gereken bir sorun var. ASML, EUV makinelerini ABD yaptırımları nedeniyle Çin’e göndermiyor ancak NIL, EUV gibi son teknoloji ürünü optikler veya aynalar kullanmadığı için Canon’un teknolojiyi SMIC gibi dökümhaneler vererek Çin’e göndermesi mümkün olabilir ( Çin’deki en büyüğü) 5nm ve sonunda 3nm ve 2nm çipler üretme yeteneği.
Huawei, 5G’yi destekleyen 7nm Kirin 9000s çipiyle çalışan Mate 60 Pro’yu tanıttığında ABD’li yasa koyucuların ve yetkililerin nasıl tepki verdiğini gördük. Bugüne kadar, SMIC’in mevcut ABD ihracat yasağını göz önünde bulundurarak çipi nasıl üretebildiğini açıklamaya çalışan ayrıntılı teoriler var. Geçen hafta bir X ihbarcısının yayınladığı teorilerden biri, Kirin 9000’lerin SMIC tarafından yapılmış bir 7nm çip olmadığı, aslında Huawei’nin envanterindeki daha eski bir Kirin 9000 SoC olduğu yönündeydi. İkincisi, TSMC tarafından 2020’de yasak başlamadan önce 5nm işlem düğümü kullanılarak yapılmıştı.
Gartner’dan Gupta şöyle diyor: “Beş yıldan önce ticari bir etki beklemiyoruz ve öncelikle bellek yongalarıyla başlayacağız. Öncü düğümlerde araştırma ve geliştirme veya konsept kapasitesinde büyük bir boşluk var… yüksek hacimli yürütme ve [being] üretim hazır ve zorluk da bu.” ABD’nin yakında bu teknolojinin Çin’e satışını engellemek için harekete geçmesini bekliyor.
