ASML ve Intel, son teknoloji yarı iletken litografi teknolojilerini ilerletmek için çok yıllı işbirliklerinde yeni bir kilometre taşını duyurdular. Intel, endüstrinin ilk TWINSCAN EXE:5200 sistemini ASML’den, yüksek sayısal açıklığa ve saatte 200 gofretten fazla iş hacmine sahip ultraviyole (EUV) litografi için yüksek hacimli bir üretim sistemi sipariş etti.
ASML’ye göre, EXE platformu EUV teknolojisinde evrimsel bir adımı temsil ediyor ve yeni bir optik tasarım içeriyor. Belirli üretim aşamalarının uygulanmasını önemli ölçüde hızlandırmanıza olanak tanır. TWINSCAN EXE:5000 ve EXE:5200 sistemleri 0,55 sayısal açıklığa sahipken, önceki EUV makineleri 0,33 sayısal açıklığa sahipti. Sayısal açıklık ne kadar büyük olursa, projeksiyon kurulumunun çözünürlüğü o kadar yüksek olur. Kullanılan dalga boyu ile birlikte bu parametre, üretilen elemanın en küçük boyutlarını belirler.
Bu arada, Intel, 2018’de önceki TWINSCAN EXE:5000 sistemini satın alan ilk kişi oldu.
ASML’nin planlarına göre High-NA litografi, yani yüksek sayısal açıklıklı litografi, 2025 yılında seri üretime girecek.
.
genel-22
