Geçen yılın sonlarında ASML, ilk yüksek NA aşırı ultraviyole (EUV) litografi sistemini Intel’e göndermeye başladı ve geçtiğimiz hafta sonu işlemci devi, aracın Hillsboro, Oregon yakınlarındaki fabrikasına kurulumunu kapsayan bir video yayınladı. Makine öncelikle araştırma ve geliştirme amacıyla kullanılacak.

ASML’nin Twinscan EXE:5000 High-NA EUV makinesi gerçekten çok büyük. Toplamda 330.000 pound ağırlığındaki makineyi taşımak için 250 kasa gerekiyor.



genel-21