ASML ve Intel bu hafta, ASML’nin High-NA litografi sistemi ile ışık kaynağını açarak ve ışığın levhaya ulaşmasını engelleyerek önemli bir dönüm noktasına ulaştığını söyledi. Reuters. Bu, ışık kaynağının ve aynaların doğru şekilde hizalandığını gösterir; bu, getirme sürecinde kritik bir adımdır. Bu ‘ilk ışık’ dönüm noktası, Twinscan EXE:5000 sisteminin ana bileşenlerinden birinin henüz en yüksek performansta olmasa da çalışır durumda olduğunu gösteriyor.

ASML’nin 0,55 sayısal açıklığa sahip projeksiyon optiklerine sahip Twinscan EXE High-NA EUV litho makineleri, tek pozlamayla 13,5 nm çözünürlük sunan tipik Low-NA EUV sistemlerinden daha düşük bir düzeyde, tek pozlamayla 8 nm’ye kadar çözünürlük elde edebilir. Bu sistemlerden ilki şu anda ASML’nin Hollanda’nın Veldhoven kentindeki laboratuvarında bulunuyor; ikincisi ise Hillsboro, Oregon yakınlarındaki bir Intel tesisinde monte ediliyor.



genel-21