Canon, nano-baskılı litografiyi (NIL) ASML çip üretim teknolojisinden daha düşük bir fiyata sunacağını ve potansiyel olarak daha küçük üreticilerin öncü yarı iletkenler üretmesine olanak tanıyacağını söyledi, ancak yeni çipler muhtemelen ABD’nin Çin’e yönelik ticari yaptırımlarıyla karşı karşıya kalacak.
Nano-baskılı litografi, en gelişmiş yarı iletken cihaz imalatında kullanılan ultraviyole (EUV) ve derin ultraviyole (DUV) fotolitografi teknolojisine alternatif olarak kullanılır.
Şu anda Hollanda merkezli ASML, 7 nm’nin altındaki çiplerin seri üretiminde kullanılan dünyanın en gelişmiş çip üretim makineleri olan EUV ve DUV teknolojisinin tek tedarikçisidir. Ancak EUV makinelerinin maliyetinin yüz milyonlarca doları bulması nedeniyle, çip pazarındaki birçok küçük oyuncu için EUV teknolojisine erişilemez.
Bu arada diğer çip üreticileri gibi ASML’nin de ABD yaptırımları sonucunda EUV teknolojisini Çinli müşterilere ihraç etmesi yasaklandı.
Geçtiğimiz ay Japonya merkezli Canon duyurdu 5 nm düğüme kadar parça üretebildiğini ve teknoloji daha da geliştirildiğinde sonunda 2 milyon düğüm üretebileceğini iddia ettiği bir nano-baskı litografi (NIL) makinesini piyasaya sürecek.
Bir devre desenini dirençli kaplamalı plaka üzerine yansıtarak aktaran geleneksel fotolitografi ekipmanından farklı olarak, Canon’un yeni teknolojisi bunun yerine devre deseni ile damgalanan levha üzerindeki direnç üzerine basılmış bir maskeyi bir damga gibi basacaktır.
Geleneksel üretim sürecinin optik mekanizma kullanımını gerektirdiği durumlarda Canon, bu adıma olan ihtiyacı ortadan kaldırarak makinelerin sahip olma maliyetini azaltabileceğini söyledi.
CEO Fujio Mitarai, “Fiyat, ASML’nin EUV’lerinden bir basamak daha düşük olacak” dedi. The Japan Times tarafından bildirilen yorumlarAncak fiyatlandırma konusunda nihai bir kararın henüz verilmediğini de sözlerine ekledi. Canon, makinelerin ne zaman satışa sunulacağı konusunda bir zaman çerçevesi belirtmedi.
ABD’nin Çin’e ticari kısıtlamalar getirmesi yönünde baskı altında olan Japon hükümeti tarafından getirilen ihracat kısıtlamaları, açıkça nano-baskı teknolojisine atıfta bulunmuyor. Ancak Mitarai ayrıca, Japon ihracat yaptırımlarıyla ilgili potansiyel gri alana rağmen, 14nm teknolojisinin ötesindeki herhangi bir şeyin ihracatının yasaklandığını, dolayısıyla şirketin yeni teknolojiyi Çin’e satamayacağını anladığını söyledi.
Japonya yerli çip endüstrisini desteklemeye devam ediyor
Pandeminin ve ABD-Çin teknoloji ticaret savaşının neden olduğu tedarik zinciri kesintilerinin ardından dünya çapındaki ülkeler, yurt içinde çip üretme çabalarını artırdı. Nisan 2023’te Japon hükümeti, ülkede yeni nesil çiplerin geliştirilmesi ve üretilmesine yönelik projeler için 532 milyon dolar (70 milyar yen) taahhüt etti. Rapidus ile bir anlaşma dahil 2025 yılına kadar Japonya’da 2 nm çip üretmeyi hedefliyoruz.
Daha sonra mayıs ayında Micron, Japonya’ya aşırı ultraviyole litografi (EUV) getirmek için 500 milyar yen’e (3,6 milyar dolar) kadar yatırım yapmayı planladığını duyurdu ve böylece bu üretim yöntemini ülkeye getiren ilk şirket oldu.
Micron, bu makineleri Hiroshima fabrikasında 1-gama çipleri olarak da bilinen yeni nesil dinamik rastgele erişim belleğini (DRAM) yapmak için kullanmayı planladığını söyledi. DRAM yongaları, düşük maliyetli ve yüksek kapasiteli belleğe ihtiyaç duyulan dijital elektroniklerde yaygın olarak kullanılmaktadır.
Telif Hakkı © 2023 IDG Communications, Inc.