Şirketin genel müdürü bu hafta yaptığı açıklamada, ASML’nin bu yıl sektörün ilk aşırı ultraviyole (EUV) litografi tarayıcısını 0,55 sayısal açıklığa (NA) sahip olarak piyasaya sürme yolunda ilerlediğini söyledi. ASML’nin Twinscan EXE:5000 makinesi öncelikle geliştirme amacıyla kullanılacak ve şirketin müşterilerinin yeni teknoloji ve yeteneklerine aşina olmasını sağlayacak. High-NA araçlarının ticari kullanımı 2025 ve sonrası için planlanıyor.
ASML’nin CEO’su Peter Wennink, “Birkaç tedarikçi, teknolojik kaliteyi artırma ve bize doğru düzeyde teknolojik kalite sunma konusunda bazı zorluklar yaşadı, bu da biraz gecikmeye yol açtı” dedi. Reuters. “Ama aslında ilk sevkiyat hâlâ bu yıl.
Bu yıl ASML, Twinscan EXE:5000 tarayıcısını ismi açıklanmayan bir müşteriye gönderecek. Şirket, 18A proses teknolojisi için High-NA tarayıcıları kullanmayı planladığını kamuoyuna açıkladığında müşteri muhtemelen Intel olacaktır – ancak sonunda Applied Materials’ın Centura Sculpta sistemini kullanarak EUV çift desenleme ve desen şekillendirmeyi içeren farklı bir çözümü tercih etmek zorunda kalmıştır (şu şekilde). ticari Twinscan EXE:5200 tarayıcılar yalnızca 2025’te mevcut olacaktır).
Intel muhtemelen 18A sonrası süreç teknolojileri için ASML’nin High-NA araçlarını benimseyecek, oysa TSMC ve Samsung’un rakipleri bu on yıl içinde bunları kullanacak. Ancak bu tarayıcılar ucuz olmayacak. Birim başına 300 milyon doların üzerinde bir maliyete sahip olabileceği tahmin ediliyor, bu da son teknoloji fabrikaların maliyetlerini daha da artıracak.
ASML’nin 0,33 NA ve 13 nm çözünürlüğe sahip çağdaş EUV tarayıcıları, tek pozlama deseniyle yaklaşık 30 nm metal aralıklı çipler basabilir; bu, 5 nm veya 4 nm sınıfları gibi üretim düğümleri için yeterince iyidir. Daha iyi şeyler için çip üreticilerinin ya EUV çift desenleme ya da desen şekillendirme tekniklerini kullanması gerekiyor; önümüzdeki birkaç yıl boyunca da bunu yapacaklar. Ancak bunun ötesinde, ASML’nin 0,55 NA ve yaklaşık 8 nm çözünürlüğe sahip yeni nesil High-NA EUV tarayıcılarını kullanmayı planlıyorlar.
Tıpkı 0,33 NA EUV’nin piyasaya sürülmesinin DUV litografiyi aşamalı olarak kaldırmaması gibi, 0,55 NA EUV araçlarının da çağdaş fabrikalardaki mevcut derin ultraviyole (DUV) ve EUV ekipmanının yerini almayacağını belirtmek gerekir. ASML, öngörülebilir gelecekte DUV ve 0,33 NA EUV tarayıcılarını geliştirmeye devam edecek. Aynı zamanda, Yüksek NA EUV litografi, transistör boyutlarının küçültülmesinde ve performanslarının artırılmasında önemli bir rol oynayacak.